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    同納水源 | 同菁環境

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    • 半導體

    半導體

    穩定的超純水 (UPW) 制備對微電子制造至關重要。同納采用多項技術工藝保證TOC、超微顆粒物、半導體元素硅和硼的高效去除,為生產線提供優質的超純水。同時在提高水的利用率、節省用電能耗、提高關鍵設備(反滲透膜、EDI、拋光樹脂)的使用壽命方面具有領先的技術能力。

    • 穩定的超純水制備和監測

      同納為要求嚴苛的半導體生產線提供穩定、高效、節能的超純水 (UPW) 和回收/循環成套系統。同納專注于關鍵微電子制造領域對超純水水質的高要求,對紫外TOC去除器的設計選型及安裝方式、顆粒物過濾器及濾芯的選材及潔凈等級、拋光樹脂床的運行及沖洗方式等都進行十分科學的計算及配置。同時在供水端設置嚴格的監測及自動控制,確保優質的超純水進入生產線。

    • 同時產線部分廢水經同納自主設計的處理回用系統,處理為純水或超純水供給生產車間,水的總利用率達到95%以上,能夠為企業帶來顯著的經濟和環境效益。

    • 我們可以為您做好

      適用于化學機械拋光、晶片拋光、清潔漂洗、切割和研磨等的所有超純水 (UPW)

      來自海水或苦咸水水源的超純水 (UPW)

      通過廢水處理減少重金屬、廢酸、顆粒物和有機化合物含量

      水回收和回用系統

      節能計劃

      用于超純水 (UPW) 和回收水的大量程靈敏的總有機碳TOC分析儀

      用于硼/二氧化硅控制的超純水 (UPW) 含量分析儀;超微顆粒物含量在線分析儀等

    • 解決方法 

    • 采用靈敏度、穩定性符合要求的總有機碳(TOC)分析儀進行控制

    • 根據源水或回收水的水質以及您對超純水水質的技術要求進行量身設計,滿足您各方面的技術及經濟要求

    • 膜的選用及EDI、拋光混床靈活運行方式滿足您的節能、穩定、高效的技術要求

    應用技術

    • 1、優化的技術工藝和嚴格的自動控制

      超純水制備包括預處理、雙級反滲透、EDI脫鹽、拋光混床處理等主要工藝流程,前道工藝的處理效率直接影響后續工藝及最終產水水質

    • 2、廢水的回收利用和源水利用率的提高

      超純水在微電子或半導體生產線使用后的廢水中主要含有與生產線工藝相關的雜質,采用同納的回收水處理工藝后得到的水質會優于市政自來水。


      我們能幫助您實現:

      水的利用率高達95%,節省了資源及費用

      穩定的供水是生產產品質量的重要保證

      實現了綠色GDP,為人類賴以生存的地球村做出貢獻

    相關工工程經歷

    達邇科技(上海)有限公司晶片切割及研磨廢水(回用率≥95%)回用處理項目


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